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F I C H A D E L D O C U M E N T O
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AUTOENSAMBLADO COLOIDAL DE DOS COMPONENTES
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AUTOENSAMBLADO COLOIDAL DE DOS COMPONENTES
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Imagen tridimensional de AFM de la topografía de un patrón formado por un sistema coloidal de dos componentes: nanopartículas de poliestireno (PS) de 60 nm y 350 nm (con una relación de concentraciones 50:1). La superficie utilizada es un cubre-muestras de vidrio modificado con octadecil triclorosilano (OTS) que le confiere al sustrato un carácter hidrofóbico.
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Técnica utilizada: Microscopio de Fuerza Atómica (AFM).
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Pillai, Saju
Universidad de Aarhus (Dinamarca)
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Resolución mínima: 1024 x 768 Navegadores: Firefox 3.5.1/Internet Explorer 7.0
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